일본 미쓰비시케미칼그룹(Mitsubishi Chemical Group)이 최첨단 반도체 공정용 초고순도 콜로이달 실리카(colloidal silica) 사업화를 결정하고, 후쿠오카현 기타큐슈시 소재 규슈사업소 후쿠오카지구에 생산설비를 신설한다고 전해진다. 상업 가동 목표 시점은 2028년 10월이라고 한다.
이번 설비는 실리콘 웨이퍼 연마용 슬러리 및 화학적기계연마(CMP, Chemical Mechanical Polishing) 슬러리의 원료로 쓰이는 초고순도 콜로이달 실리카를 생산하기 위한 것이라고 알려져 있다. 미쓰비시케미칼은 외부 기술 라이선서 없이, 초고순도 원료인 테트라메톡시실란(tetramethoxysilane)을 기반으로 한 자사의 일관생산 공정 기술을 적용해 불순물 함량을 최소화하고, 입자 크기·밀도 등을 고객사 요구에 맞춰 조정할 수 있는 것이 특징이라고 전해진다. 미쓰비시케미칼그룹은 반도체 소재 사업을 그룹의 핵심 성장축 중 하나로 육성해왔으며, 이번 투자 역시 첨단 로직·메모리 반도체 미세공정 확대에 대응하기 위한 소재공급 능력 확충 차원으로 알려져 있다.
반도체 미세화가 진행되면서 웨이퍼 연마 공정에 요구되는 소재 순도 기준이 갈수록 높아지고 있으며, 이번 투자는 미쓰비시케미칼이 첨단 반도체 소재 시장에서 입지를 강화하려는 전략의 일환으로 풀이된다고 한다. 일본 정부 역시 반도체 소재·부품 산업을 경제안보 핵심 분야로 지정해 관련 투자를 지원해온 만큼, 이번 사업 역시 이러한 정책 기조와 궤를 같이 하는 것으로 알려져 있다.
국내 반도체 소재·부품 업계 역시 초고순도 연마 소재 공급망 다변화 및 국산화 동향을 주시할 필요가 있다고 전해진다.
2028년 10월 상업 가동 개시 여부와, 가동 이후 주요 반도체 제조사와의 공급 계약 체결 현황이 관전 포인트로 꼽힌다고 한다.