일본 미쓰비시케미칼그룹(Mitsubishi Chemical Group)이 최첨단 반도체 공정용 초고순도 콜로이달 실리카(colloidal silica) 사업화를 결정하고, 후쿠오카현 기타큐슈시 소재 규슈사업소 후쿠오카지구에 생산설비를 신설한다고 전해진다. 상업 가동 목표 시점은 2028년 10월이라고 한다. 이번 설비는 실리콘 웨이퍼 연마용 슬러리 및 화학적기계연마(CMP, Chemical Mechanical Polishing) 슬러리의 원료로 쓰이는 초고순도 콜로이달 실리카를 생산하기 위한 것이라고 알려져 있다. 미쓰비시케미칼은 외부 기술 라이선서 없이, […]
